美國Lumina公司表面缺陷光學掃描儀
日期：2025-12-12 02:05
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摘要：美國Lumina公司表面缺陷光學掃描儀采用**的激光器掃描技術開發(fā)出一種新型的光學掃描系統(tǒng)AT1，用來對材料整個表面的缺陷進行繪圖和分類，薄膜缺陷掃描靈敏度<0.5nm。其在透明材料上亞納米薄膜涂層的成像能力是****的，可區(qū)分透明基底的頂部/底部特征。AT1已被普遍用于藍寶石、玻璃和硅等材料的表面缺陷檢測。
美國Lumina公司表面缺陷光學掃描儀
美國Lumina公司采用**的激光器掃描技術開發(fā)出一種新型的光學掃描系統(tǒng)AT1，用來對材料整個表面的缺陷進行繪圖和分類，薄膜缺陷掃描靈敏度<0.5nm。其在透明材料上亞納米薄膜涂層的成像能力是****的，可區(qū)分透明基底的頂部/底部特征。AT1已被普遍用于藍寶石、玻璃和硅等材料的表面缺陷檢測。
美國Lumina公司表面缺陷光學掃描儀產(chǎn)品特征：
1.透明、半透明和不透明的材料均可測量，比如硅、化合物半導體或金屬基底；
2.實現(xiàn)亞納米的薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點和其他缺陷的全表面掃描和成像；
3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時間為3分鐘，50x50mm樣品30秒內可完成掃描并顯示結果；
4.高抗震性能，系統(tǒng)不旋轉，形狀無關，可容納非圓形和易碎的基底材料；
5.高達300x300mm的掃描區(qū)域；可定位缺陷，以便進一步分析；
AT1有四個檢測通道，采用四種獨立的方法：偏振，亮場，坡度和暗場，幾分鐘內，就能提供材料表面的四張完整圖像，每個圖像代表特定的缺陷：
1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應力點；
2.坡度通道用于凹坑、凸起；
3.反射通道用于粗糙表面的顆粒；
4.暗場通道用于微粒和劃痕；
基于多次檢測，AT1生成缺陷圖和報告，包括：
1.地圖和位置；
2.顏色標注的缺陷；
3.缺陷的尺寸和圖像；
美國Lumina公司采用**的激光器掃描技術開發(fā)出一種新型的光學掃描系統(tǒng)AT1，用來對材料整個表面的缺陷進行繪圖和分類，薄膜缺陷掃描靈敏度<0.5nm。其在透明材料上亞納米薄膜涂層的成像能力是****的，可區(qū)分透明基底的頂部/底部特征。AT1已被普遍用于藍寶石、玻璃和硅等材料的表面缺陷檢測。
美國Lumina公司表面缺陷光學掃描儀產(chǎn)品特征：
1.透明、半透明和不透明的材料均可測量，比如硅、化合物半導體或金屬基底；
2.實現(xiàn)亞納米的薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點和其他缺陷的全表面掃描和成像；
3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時間為3分鐘，50x50mm樣品30秒內可完成掃描并顯示結果；
4.高抗震性能，系統(tǒng)不旋轉，形狀無關，可容納非圓形和易碎的基底材料；
5.高達300x300mm的掃描區(qū)域；可定位缺陷，以便進一步分析；
AT1有四個檢測通道，采用四種獨立的方法：偏振，亮場，坡度和暗場，幾分鐘內，就能提供材料表面的四張完整圖像，每個圖像代表特定的缺陷：
1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應力點；
2.坡度通道用于凹坑、凸起；
3.反射通道用于粗糙表面的顆粒；
4.暗場通道用于微粒和劃痕；
基于多次檢測，AT1生成缺陷圖和報告，包括：
1.地圖和位置；
2.顏色標注的缺陷；
3.缺陷的尺寸和圖像；